氧化铝陶瓷片的制作工艺如何？

　　氧化铝陶瓷片目前分为高纯型与普通型两种，高纯型氧化铝陶瓷系Al2O3含量在99.9%以上的陶瓷材料，由于其烧结温度高达1650-1990℃，透射波长为1～6μm，一般制成熔融玻璃以取代铂坩埚：利用其透光性及可耐碱金属腐蚀性用作钠灯管;在电子工业中可用作集成电路基板与高频绝缘材料。

　　氧化铝陶瓷片有的用作电真空装置器件，其制作工艺如下：粉体制备：将入厂的氧化铝粉按照不同的产品要求与不同成型工艺制备成粉体材料。粉体粒度在1μm微米以下，若制造高纯氧化铝陶瓷制品除氧化铝纯度在99.99%外，还需超细粉碎且使其粒径分布均匀。

　　欲干压成型时需对粉体喷雾造粒，其中引入聚乙烯醇作为粘结剂，在加热情况下有很好的流动性，喷雾造粒后的粉体必须具备流动性好、密度松散，流动角摩擦温度小于30℃，以上就是氧化铝陶瓷片的制作工艺。